董闯

个人信息Personal Information

教授

博士生导师

硕士生导师

性别:男

毕业院校:法国洛林国立综合理工学院

学位:博士

所在单位:材料科学与工程学院

电子邮箱:dong@dlut.edu.cn

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论文成果

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真空离子镀技术研发历程及应用

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论文类型:期刊论文

发表时间:2013-08-15

发表刊物:电镀与精饰

收录刊物:PKU、ISTIC

卷号:35

期号:8

页面范围:36-40

ISSN号:1001-3849

关键字:电镀;真空离子镀;中间层合金;离子镀装饰膜;离子镀功能厚膜

摘要:离子镀是在真空状态下完成的工艺操作,对环境没有污染,是代替污染严重的电镀技术的主要出路之一.离子镀膜层厚度及应用可分为:离子镀装饰薄膜及离子镀功能厚膜.离子镀装饰薄膜主要用在提高工件装饰性和抗大气腐蚀,膜层δ一般<5 μm.离子镀功能厚膜主要用在提高工件耐磨性和耐蚀性,膜层δ为40μm以上,离子镀铬合金厚膜代替电镀硬铬工艺的研发,取得满意成果,已投入工业生产.