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Experimental and numerical investigations of electron density

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论文类型：期刊论文

发表时间：2013-01-01

发表刊物：J. Vac. Sci. Technol. A

卷号：31

期号：6

页面范围：61308-61308

上一条：Gas ratio effects on the Si etch rate and profile uniformity in an inductively coupled Ar/CF4 plasma

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