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脉冲偏压电弧离子镀Zr-Me-N(Me=Cr,Al,Cu)薄膜性能研究(英文)

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2013-11-15

Journal:稀有金属材料与工程

Included Journals:PKU、ISTIC

Issue:S2

Page Number:83-86

ISSN No.:1002-185X

Key Words:电弧离子镀;三元氮化物;力学性能;摩擦系数

Abstract:利用脉冲偏压电弧离子镀在高速钢和Si基体上沉积锆基三元氮化物薄膜Zr-Me-N(Me=Al,Cr,Cu)。采用EPMA、XRD、SEM、接触角、纳米压痕、划痕仪以及摩擦磨损试验机分别研究薄膜的组分、结构、润湿性、力学性能和摩擦学性能。研究表明:Zr-Cr-N和Zr-Cu-N薄膜为单一相fcc B1(NaCl)结构;薄膜具有良好的结合力和较高的水接触角;ZrN中掺入过量的Al导致薄膜的力学性能降低。Zr-Cu-N薄膜显微硬度最高,达到35.5 GPa,而且纳米复合Zr-Cu-N薄膜能有效地降低摩擦系数。

Pre One:Deposition and characterization of Ti–Cx–Ny nanocomposite films by pulsed bias arc ion plating

Next One:Characteristics of Zr-Me-N (Me=Cr, Al, Cu) Films Deposited by Pulsed Bias Arc ion Plating