Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2011-01-15

Journal: 真空科学与技术学报

Included Journals: Scopus、CSCD、ISTIC、PKU、EI

Volume: 31

Issue: 1

Page Number: 71-75

ISSN: 1672-7126

Key Words: 电弧离子镀 磁场 管内壁 TiN薄膜

Abstract: 用电弧离子镀设备在一端封口的Φ50 mm×200 mm×5 mm不锈钢深管内壁上沉积TiN薄膜 ,镀膜前在管子上方布置一个0.4 T的永磁体,以考察附加磁场对深管内壁沉积TiN薄膜的影响.对薄膜的厚度、表面形貌、相结构、显微硬度等随管子深度的变化进行了分析与测试 ,结果表明,薄膜的厚度及显微硬度都随管子的深度而下降,但在距管开口处前120 mm范围 内下降明显慢于未加磁场的,说明磁场对内孔沉积具有促进作用;按照显微硬度不低于20 G Pa划分,本实验的镀膜深径比达到了2.0,比未加磁场时提高了40%.