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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2011-01-15

Journal:真空科学与技术学报

Included Journals:EI、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus

Volume:31

Issue:1

Page Number:71-75

ISSN No.:1672-7126

Key Words:电弧离子镀 磁场 管内壁 TiN薄膜

Abstract:用电弧离子镀设备在一端封口的Φ50 mm×200 mm×5 mm不锈钢深管内壁上沉积TiN薄膜 ,镀膜前在管子上方布置一个0.4 T的永磁体,以考察附加磁场对深管内壁沉积TiN薄膜的影响.对薄膜的厚度、表面形貌、相结构、显微硬度等随管子深度的变化进行了分析与测试 ,结果表明,薄膜的厚度及显微硬度都随管子的深度而下降,但在距管开口处前120 mm范围 内下降明显慢于未加磁场的,说明磁场对内孔沉积具有促进作用;按照显微硬度不低于20 G Pa划分,本实验的镀膜深径比达到了2.0,比未加磁场时提高了40%.