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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 大连理工大学常州研究院院长（2012-2016）
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
学科：材料物理与化学. 材料表面工程. 等离子体物理
办公地点：三束材料改性教育部重点实验室2号楼（老三束北楼）301室
联系方式：Tel:0411-84708380-8301 Emil:gqlin@dlut.edu.cn
电子邮箱：gqlin@dlut.edu.cn
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脉冲偏压电弧离子镀Cr-O薄膜结构及光学性能研究
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论文类型：期刊论文
发表时间：2015-05-25
发表刊物：物理学报
收录刊物：Scopus、SCIE、EI、PKU、ISTIC、CSCD
卷号：64
期号：13
页面范围：423-429
ISSN号：1000-3290
关键字：Cr-O薄膜;电弧离子镀;相结构;光学性能
摘要：采用脉冲偏压电弧离子镀技术在单晶硅基片及石英玻璃上制备了一系列均匀透明的Cr-O薄膜.用场发射扫描电子显微镜、X射线衍射仪、X射线光电子谱、纳米压痕仪、紫外可见光分光光度计等方法对薄膜的表面形貌、膜厚、相结构、成分、元素的化学价态、硬度和光学性能等进行表征,主要研究了偏压幅值对薄膜结构和性能的影响.结果表明,施加偏压可使薄膜的沉积质量明显提高,其相结构由非晶态转变为晶体态,并随着偏压幅值的增加,由Cr2O3相向CrO相转变;薄膜的硬度先增大后减小,当偏压为-300 V时,硬度达到最大值24.4 GPa;薄膜具有良好的透光率,最高可达72%;当偏压为-200 V时,薄膜的最大光学帯隙为1.88 eV.