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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 大连理工大学常州研究院院长（2012-2016）
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
学科：材料物理与化学. 材料表面工程. 等离子体物理
办公地点：三束材料改性教育部重点实验室2号楼（老三束北楼）301室
联系方式：Tel:0411-84708380-8301 Emil:gqlin@dlut.edu.cn
电子邮箱：gqlin@dlut.edu.cn
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铜含量对脉冲偏压电弧离子镀Zr-Cu-N薄膜结构与性能的影响
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论文类型：会议论文
发表时间：2012-09-13
页面范围：87-90
关键字：Zr-Cu-N薄膜;结构;力学性能;电弧离子镀
摘要： 利用脉冲偏压电弧离子镀设备调控分离靶弧流,在高速钢和Si基体上沉积了不同铜含量的Zr-Cu-N薄膜.采用EPMA、XRD、纳米压痕以及摩擦磨损试验机研究铜含量对薄膜的组分、结构、力学性能和摩擦学性能.研究表明：Zr-Cu-N薄膜结构主要依赖于铜含量；铜对作为软质相能有效地抑制ZrN晶粒的生长；随着铜含量的增加,薄膜硬度和弹性模量逐渐降低,最高分别为35.5和390.6 GPa,而摩擦系数先增加后减小,最低为0.15.