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论文类型：期刊论文

发表时间：2012-10-15

发表刊物：真空科学与技术学报

收录刊物：PKU、ISTIC、CSCD

卷号：32

期号：10

页面范围：872-877

ISSN号：1672-7126

关键字：TC4钛合金;电弧离子镀;TiN/CrN纳米多层薄膜

摘要：用电弧离子镀技术在TC4钛合金基体上通过改变偏压制备了4组TiN/CrN薄膜,对薄膜的表面形貌、厚度、相结构、硬度、膜基结合力和摩擦系数等组织、性能进行了测试表征.结果表明,薄膜是由TiN相和CrN交替叠加构成的纳米多层薄膜,薄膜的调制周期为60nm,总的厚度约为480nm.与基体钛合金相比,镀膜后样品的表面性能与偏压幅值密切相关并有显著提高:显微硬度从基体的3 GPa提高到16.5～24.7 GPa;摩擦系数从基体的0.35大幅度降低到0.14～0.17;薄膜与基体结合牢固,膜基临界载荷在60～80N之间.经电弧离子镀TiN/CrN纳米多层薄膜处理后,TC4钛合金可以满足沙粒和尘埃磨损条件下的耐磨性能要求.