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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 大连理工大学常州研究院院长（2012-2016）
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
学科：材料物理与化学. 材料表面工程. 等离子体物理
办公地点：三束材料改性教育部重点实验室2号楼（老三束北楼）301室
联系方式：Tel:0411-84708380-8301 Emil:gqlin@dlut.edu.cn
电子邮箱：gqlin@dlut.edu.cn
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脉冲偏压电弧离子镀C-N-Cr薄膜的成分、结构与性能
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论文类型：期刊论文
发表时间：2009-05-01
发表刊物：金属学报
收录刊物：SCIE、EI、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus
卷号：45
期号：5
页面范围：610-614
ISSN号：0412-1961
关键字：C-N-Cr薄膜;脉冲偏压;电弧离子镀;结构;性能
摘要：用脉冲偏压电弧离子镀设备在保持偏压一致和工作气压恒定的条件下,控制不同氮(N)流量,在硬质合金基体上制备了不同成分的C-N-Cr薄膜.用SEM,XPS,GIXRD,激光Raman谱和纳米压入等方法分别研究了薄膜的表面形貌、成分、结构与性能.结果表明,随着N流量增加,薄膜中N含量先是线性增加然后趋于平缓,Cr含量先是基本保持不变然后线性减少.在N流量不超过20 mL/min时,薄膜保持较高的硬度(＞30 GPa)与弹性模量(＞500 GPa);当N流量超过20 mL/min时,薄膜硬度与弹性模量急剧下降,在N流量为100 mL/min时硬度与弹性模量仅为13.6与190.8 GPa.