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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 大连理工大学常州研究院院长（2012-2016）
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
学科：材料物理与化学. 材料表面工程. 等离子体物理
办公地点：三束材料改性教育部重点实验室2号楼（老三束北楼）301室
联系方式：Tel:0411-84708380-8301 Emil:gqlin@dlut.edu.cn
电子邮箱：gqlin@dlut.edu.cn
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氮含量对脉冲偏压电弧离子镀CNx薄膜结构与性能的影响
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论文类型：期刊论文
发表时间：2008-08-01
发表刊物：金属学报
收录刊物：SCIE、EI、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus
卷号：44
期号：8
页面范围：917-921
ISSN号：0412-1961
关键字：氮化碳薄膜;脉冲偏压;电弧离子镀;结构;力学性能
摘要：用脉冲偏压电弧离子镀设备在保持脉冲偏压一致和工作气压恒定的条件下,控制不同氮流量在硬质合金基体上制备了不同氰含量的CNx薄膜.用SEM,GIXRD,XPS,激光Raman谱和纳米压入等方法分别研究了薄膜的表面形貌、成分、结构与性能.结果表明,随着氮流量的增加,薄膜中氮含量先是线性增加然后趋于平缓,薄膜呈非晶结构且为类金刚石薄膜,其硬度与弹性模量随着氮含量增加先增加后下降,在x=0.081时出现最大值,分别为32.1 GPa和411.8 GPa.分析表明,通过氮含量的改变而使sp3键含量发生改变是影响薄膜性能变化的重要因素.