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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 大连理工大学常州研究院院长（2012-2016）
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
学科：材料物理与化学. 材料表面工程. 等离子体物理
办公地点：三束材料改性教育部重点实验室2号楼（老三束北楼）301室
联系方式：Tel:0411-84708380-8301 Emil:gqlin@dlut.edu.cn
电子邮箱：gqlin@dlut.edu.cn
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磁场对电弧离子镀深管内壁沉积TiN薄膜的影响
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论文类型：期刊论文
发表时间：2011-01-15
发表刊物：真空科学与技术学报
收录刊物：EI、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus
卷号：31
期号：1
页面范围：71-75
ISSN号：1672-7126
关键字：电弧离子镀 磁场 管内壁 TiN薄膜
摘要：用电弧离子镀设备在一端封口的Φ50 mm×200 mm×5 mm不锈钢深管内壁上沉积TiN薄膜 ,镀膜前在管子上方布置一个0.4 T的永磁体,以考察附加磁场对深管内壁沉积TiN薄膜的影响.对薄膜的厚度、表面形貌、相结构、显微硬度等随管子深度的变化进行了分析与测试 ,结果表明,薄膜的厚度及显微硬度都随管子的深度而下降,但在距管开口处前120 mm范围 内下降明显慢于未加磁场的,说明磁场对内孔沉积具有促进作用;按照显微硬度不低于20 G Pa划分,本实验的镀膜深径比达到了2.0,比未加磁场时提高了40%.