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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：机械工程学院
电子邮箱：guodm@dlut.edu.cn
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铜化学机械抛光中电化学理论的应用研究
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论文类型：期刊论文
发表时间：2005-01-15
发表刊物：润滑与密封
收录刊物：EI、PKU、ISTIC、Scopus
期号：1
页面范围：106-108,121
ISSN号：0254-0150
关键字：化学机械抛光;电化学;抛光液
摘要：概述了电位-pH图、极化曲线、交流阻抗谱和开路电压测试等电化学方法在铜化学机械抛光(Cu-CMP)中的应用,并分析了采用电化学方法进行CMP分析存在的问题,指出采用以上电化学方法进行Cu-CMP分析有利于对CuCMP的过程的理解,并可以为抛光液组分的选配提供依据.