郭东明
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别:男
毕业院校:大连理工大学
学位:博士
所在单位:机械工程学院
电子邮箱:guodm@dlut.edu.cn
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覆晶封装底胶充填流动研究
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论文类型:期刊论文
发表时间:2005-09-30
发表刊物:纳米技术与精密工程
卷号:3
期号:3
页面范围:185-188
ISSN号:1672-6030
关键字:覆晶;锡球;底胶充填;自由液面;接触角
摘要:在IC封装中,覆晶封装拥有低成本、低交介口及体积小的特色.文中主要探讨了覆晶封装底胶充填时,锡球、芯片及基板间的流动状况.所使用的制程参数为进浇型式、射出压力、充填时间及锡球尺寸.进浇型式有单点、一字、L型和U型.研究结果显示,在覆晶封装底胶充填时,实验观察和仿真分析所得的平面方向的自由液面形状非常一致.在厚度方向,实验观察的自由液面形状为凹形.不同射出压力下,自由液面的接触角均相同.由此而知,在底胶充填时,表面张力为主要作用力.在相同射出压力下,0.8 mm锡球的自由液面接触角大于1.0 mm锡球的自由液面接触角.