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论文类型：期刊论文

发表时间：2004-04-23

发表刊物：半导体技术

收录刊物：PKU、ISTIC、CSCD

卷号：29

期号：4

页面范围：10-14

ISSN号：1003-353X

关键字：集成电路;化学机械抛光;夹持技术

摘要：目前半导体制造技术已经进入0.1 3μm时代,化学机械抛光(CMP)已经成为IC制造中不可缺少的技术.本文描述了下一代IC对大尺寸硅片(≥300mm)局部和全局平坦化精度的要求,介绍了目前工业发达国家在化学机械抛光加工中硅片夹持技术方面的研究现状,分析了当前硅片夹持技术中存在的问题,并指出了未来大尺寸硅片超精密平坦化加工中夹持与定位技术的发展趋势.