郭东明

个人信息Personal Information

教授

博士生导师

硕士生导师

性别:男

毕业院校:大连理工大学

学位:博士

所在单位:机械工程学院

电子邮箱:guodm@dlut.edu.cn

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论文成果

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ULSI制造中铜CMP抛光液的技术分析

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论文类型:期刊论文

发表时间:2007-05-03

发表刊物:半导体技术

收录刊物:PKU、ISTIC、CSCD

卷号:32

期号:5

页面范围:382-386

ISSN号:1003-353X

关键字:化学机械抛光;抛光液;铜;技术分析

摘要:对ULSI制造中的层间介质化学机械抛光的发展趋势和要求进行了讨论,分析了铜化学机械抛光的材料去除过程、影响因素和抛光液的重要作用,讨论了酸性和碱性两种铜抛光液的组成和一些组分的功能,对研究铜化学机械抛光的电化学手段进行了阐述和机理分析,指出了铜化学机械抛光今后的研究趋势和重点以及抛光液研究的发展方向.