点击次数：
论文类型：会议论文
发表时间：2010-01-13
页面范围：1
关键字：MOCVD;ZnO;氢气处理
摘要：利用MOCVD设备生长了不同锌氧比的ZnO薄膜,并在高压(90个大气压)常温氢气气氛中处理40天。结果发现,处理后与处理前的样品在结构、光学及电学性质上有很大的不同,利用扫描电子显微镜、变温光致发光谱以及霍尔效应测试对样品进行了测试,并对结果进行了分析。