location: Current position: Home >> Scientific Research >> Paper Publications

利用分子印迹技术分离腐殖酸中类酞菁结构的物质

Hits:

Indexed by:会议论文

Date of Publication:2009-05-10

Page Number:1

Key Words:腐殖酸;分子印迹;酞菁;2;4-二氯苯氧乙酸(2;4-D);光降解

Abstract:腐殖酸是溶解性有机质的主要成分,广泛地分布于自然界中。在太阳光的照射下,有关腐殖酸的光化学过程经常产生活性氧自由基,它可能影响着持久性有毒物质的迁移与转化。腐殖酸中不同物质的分子结构可能是影响其光化学行为的重要因素之一。众所周知,叶绿素是植物生长进行光合作用的主要原因,当它们生命终止,植物的残体会逐渐分解、腐殖化,成为小的有机质。植物体中的基本

Pre One:全氟辛烷磺酸(PFOS)在黑碳上的吸附行为

Next One:厌氧环境铁炭微电解处理印染废水的研究