|
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 《Plasma Science and Technology》学术期刊编委
性别：男
毕业院校：大连工学院
学位：硕士
所在单位：物理学院
学科：等离子体物理
办公地点：主楼东侧楼（物理系楼）304室
联系方式：0411-84707981
电子邮箱：wangdez@dlut.edu.cn
扫描关注
等离子体源离子注入装置中离子到达靶表面的能量和角分布
点击次数：
论文类型：期刊论文
发表时间：1995-01-01
发表刊物：自然科学进展
收录刊物：CSCD
卷号：5
期号：1
页面范围：71
ISSN号：1002-008X
关键字：等离子体源离子注入; 能量分布; 蒙特卡罗模拟
摘要：等离子体源离子注入,是将待注入的靶直接浸入等离子体源中,靶上施加一系列负高压脉冲,离子在变化的电场中获得能量后注入靶中,建立了离子的蒙特卡罗模拟模型,考虑了离子与中性粒子的电荷交换碰撞和弹性散射,模拟了不同气压下氮离子(N_2~+)到达靶表面的能量分布和入射角分布。