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专利名称：一种采用反应磁控溅射制备二氧化铪基铁电薄膜的方法

第一作者：周大雨

发明设计人：孙纳纳,徐进,徐军,张昱,赵鹏

所属单位：材料科学与工程学院

申请号：ZL 2018 1 0171185.0

发布时间：2022-10-20