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液相氧化-低温煅烧脱除Silicalite-1膜模板剂及其性能研究

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2011-02-25

Journal:膜科学与技术

Included Journals:PKU、ISTIC、CSCD

Volume:31

Issue:1

Page Number:61-65

ISSN No.:1007-8924

Key Words:Silicalite-1沸石膜;液相氧化;渗透蒸发;气体渗透

Abstract:采用原位生长法在管状大孔α-Al2O3载体外表面上合成致密连续Silicalite-1沸石膜,利用双氧水和稀硝酸混合液液相氧化-低温煅烧方法脱除Silicalite-1沸石膜的模板剂,并用扫描电镜(SEM)、气体渗透测试,渗透蒸发(PV)等表征手段对沸石膜的性能进行评价.结果表明所制备的Silicalite-1膜表面晶粒交互生长,致密,连续,膜的厚度约为10 μm.在293K,0.1 MPa压差条件下,N2的渗透速率为8.16×10-7mol/(m2·s·Pa),N2/i-C4H10理想分离系数为达到425.在428 K下,CO2/N2的理想分离系数为2.89.在333 K下,渗透蒸发分离5%乙醇/水混合液,乙醇/水的分离系数αA/W达到40.3,通量J为0.83 kg/(m2·h).

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