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论文类型：期刊论文

发表时间：2010-12-10

发表刊物：核技术

收录刊物：Scopus、PKU、ISTIC、CSCD

卷号：33

期号：12

页面范围：951-954

ISSN号：0253-3219

关键字：薄膜;气相沉积;脉冲功率;CrNx;硬度

摘要：高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)溅射粒子离化率高,可沉积致密、高性能薄膜,作为一种新技术在国外广泛研究.本文用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术(HPPUMS)制备一系列CrNx薄膜,采用原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)对不同厚度的薄膜表面形貌、微观结构进行了分析,测定了薄膜的厚度和硬度,研究了薄膜的摩擦学性能,并与中频磁控溅射(MFMS)技术制备的CrNx进行比较.结果表明,使用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术(HPPUMS)能制备致密的CrNx薄膜.薄膜有较好的综合性能,有较高硬度、较高结合强度和低摩擦系数.