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Indexed by: Conference Paper

Date of Publication: 2011-08-08

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Key Words: 等离子体诊断;容性耦合;CF_4/Ar;光谱法;等离子体产生;对双;等离子体刻蚀;加工工艺;放电过程;数密度;

Abstract: 碳氟气体在等离子体刻蚀加工工艺中应用非常广泛。在放电过程中碳氟等离子体产生大量用于刻蚀基片的F、CF、CF_2等自由基,测定它们数密度的变化规律对等离子体中物理-化学过程的研究有很重要的意义,从而对加工工艺的改进也是至关重要的。采用光谱法这种既快速简易而且非侵入型的方法对双频容性耦合CF_4等离子体中的自由基数密度进行诊断已越来越被人们所关注。