大连理工大学主页平台管理系统王友年--中文主页-- Study on Feature Profile Evolution for Chlorine Etching of Silicon in a RF Biased Sheath

王友年

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Study on Feature Profile Evolution for Chlorine Etching of Silicon in a RF Biased Sheath

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论文类型：会议论文

发表时间：2011-01-01

上一条：Two dimensional fluid simulation in capacitively coupled silane discharges

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