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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2003-06-30

Journal:哈尔滨工业大学学报

Included Journals:PKU、ISTIC、CSCD

Volume:35

Issue:6

Page Number:668-670

ISSN No.:0367-6234

Key Words:化学液相沉积法(CLPD);Al2O3薄膜;铒

Abstract:给出了用化学液相沉积法(CLPD)制备AlxOy/Si薄膜的方法,室温下生长2 h得到AlxOy/Si薄膜,其退火温度为1 000 ℃,退火时间2 h.对薄膜的显微硬度、成分和结构进行了检测和分析.结果表明,薄膜的显微硬度在退火前为5 202.0 N/mm2,退火后为14 533.5 N/mm2,增加近3倍;高温退火去掉了膜内的OH-1,同时使薄膜晶化, 晶体薄膜的O/Al比例为1.3.