Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2003-06-30

Journal: 哈尔滨工业大学学报

Included Journals: CSCD、ISTIC、PKU

Volume: 35

Issue: 6

Page Number: 668-670

ISSN: 0367-6234

Key Words: 化学液相沉积法(CLPD);Al2O3薄膜;铒

Abstract: 给出了用化学液相沉积法(CLPD)制备AlxOy/Si薄膜的方法,室温下生长2 h得到AlxOy/Si薄膜,其退火温度为1 000 ℃,退火时间2 h.对薄膜的显微硬度、成分和结构进行了检测和分析.结果表明,薄膜的显微硬度在退火前为5 202.0 N/mm2,退火后为14 533.5 N/mm2,增加近3倍;高温退火去掉了膜内的OH-1,同时使薄膜晶化, 晶体薄膜的O/Al比例为1.3.