Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2009-12-15

Journal: 中国有色金属学报

Included Journals: Scopus、EI、CSCD、ISTIC、PKU

Volume: 19

Issue: 12

Page Number: 2162-2166

ISSN: 1004-0609

Key Words: Ni 压应力 扩散 高温氧化 空位 Ni compressive stress diffusion high temperature oxidation vacancy

Abstract: 采用热重(TGA)方法测定纯Ni在800 ℃无应力及外加压应力为10和20 MPa时的氧化动力学曲线,通过扫描电镜观察有无压应力作用下的氧化膜表面和截面形貌,分析压应力作用下氧化动力学的变化和氧化膜的失效形式,从金属空位扩散的角度讨论压应力对纯Ni高温氧化行为的影响.结果表明:纯Ni在800 ℃时氧化,外加压应力增大其氧化速率,这是由于外加压应力对氧化膜结构的影响造成的;无压应力作用时,氧化膜为脊状氧化物;而在压应力作用下,氧化膜由粒状NiO组成,这增大晶界扩散的短路扩散;且压应力促进空位在氧化膜/金属界面的聚集、粗化,弱化界面,改变氧化膜的失效形式.