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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2009-12-15

Journal:中国有色金属学报

Included Journals:PKU、ISTIC、CSCD、EI、Scopus

Volume:19

Issue:12

Page Number:2162-2166

ISSN No.:1004-0609

Key Words:Ni 压应力 扩散 高温氧化 空位 Ni compressive stress diffusion high temperature oxidation vacancy

Abstract:采用热重(TGA)方法测定纯Ni在800 ℃无应力及外加压应力为10和20 MPa时的氧化动力学曲线,通过扫描电镜观察有无压应力作用下的氧化膜表面和截面形貌,分析压应力作用下氧化动力学的变化和氧化膜的失效形式,从金属空位扩散的角度讨论压应力对纯Ni高温氧化行为的影响.结果表明:纯Ni在800 ℃时氧化,外加压应力增大其氧化速率,这是由于外加压应力对氧化膜结构的影响造成的;无压应力作用时,氧化膜为脊状氧化物;而在压应力作用下,氧化膜由粒状NiO组成,这增大晶界扩散的短路扩散;且压应力促进空位在氧化膜/金属界面的聚集、粗化,弱化界面,改变氧化膜的失效形式.