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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:1993-12-31

Journal:大连理工大学学报

Included Journals:PKU

Issue:S2

Page Number:194-201

ISSN No.:1000-8608

Key Words:NiAl金属间化合物;缺陷强化;偏析化学;计量成分

Abstract:研究了ＮｉＡｌ金属间化合物由化学成分偏离化学计量成分所造成的缺陷强化，并与其他Ｂ２型金属间化合物的结果进行了比较．结果表明：ＮｉＡｌ化合物的缺陷强化不能单纯用传统的稀薄合金固溶强化理论来解释．对Ｂ２型结构稳定的二元系合金来说，化学成分偏离量越少，产生的缺陷强度越大．说明ＮｉＡｌ化合物中由于化学成分偏离化学计量成分所造成的缺陷不是均匀分布的，而是在一定的原子尺寸范围内形成了短程或长程有序的规则排列．这可能是比溶质原子均匀排列时产生附加强化效应的原因．