论文名称：显微组织对冶金法制备多晶硅电阻率的影响
论文类型：期刊论文
发表刊物：机械工程材料
收录刊物：PKU、ISTIC、CSCD
卷号：32
期号：1
页面范围：17-20
ISSN号：1000-3738
关键字：多晶硅;冶金法;电阻率;晶界;金属硅化物
摘要：利用四探针电阻测试仪、光学显微镜、扫描电镜、电感耦合等离子发射光谱仪、能谱分析等设备,从晶粒尺寸、组织形态以及晶界析出物等对冶金法制备的多晶硅电阻率的影响.结果表明:组织为等轴晶时,电阻率的大小与晶粒大小成正比;在组织为柱状晶时,平行于柱状晶方向的电阻率明显高于垂直方向的电阻率;在纯度较低的多晶硅中,金属杂质易在晶界处偏析,形成金属硅化物相,降低了多晶硅材料的电阻率.
发表时间：2008-01-20