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Indexed by:会议论文
Date of Publication:2012-04-13
Page Number:1-1
Key Words:约束刻蚀层技术;氧化还原软物质超薄层;修饰电极
Abstract: 由田昭武院士原创提出的约束刻蚀层技术(CELT)是一项在微/纳加工领域有着广泛应用前景的电化学加工新技术1.本文将介绍我们发展此项技术的新思路和新途径，即：采用电化学/化学修饰等方法，在工具电极表面修饰一层具有独特的电子传导性和可逆的氧化还原性质的软物质超薄层，通过电化学调控软物质超薄层的氧化态，使其与待加工工件接触后，仅化学氧化与之接触的工件表面，从而实现精确的约束刻蚀.
