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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：机械工程学院
学科：机械制造及其自动化
办公地点：机械工程学院高性能制造研究所#5015室
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Environment-friendly chemical mechanical polishing using NaHCO3-activated H2O2 slurry for highly efficient finishing of 4H-SiC (0001) surface
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论文类型：期刊论文
论文编号：385466
发表时间：2024-01-17
发表刊物：JOURNAL OF MANUFACTURING PROCESSES
卷号：109
页面范围：213-221
ISSN号：1526-6125
关键字：CMP; SILICA; WASTE-WATER TREATMENT; XPS