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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：机械工程学院
学科：机械制造及其自动化
办公地点：机械工程学院高性能制造研究所#5015室
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Insights into Interfacial Mechanism of CeO2/Silicon and Atomic-Scale Removal Process during Chemo-Mechanical Grinding of Silicon
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论文类型：期刊论文
论文编号：383553
发表时间：2023-11-07
发表刊物：LANGMUIR
卷号：39
期号：46
页面范围：16606-16617
ISSN号：0743-7463
关键字：CEO2; OXIDE; SI; SIMULATION; SUBSTRATE; SUBSURFACE DAMAGE; SURFACE; WAFERS; WHEELS