高尚
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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：机械工程学院
学科：机械制造及其自动化
办公地点：机械工程学院高性能制造研究所#5015室
联系方式：
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石英晶片化学机械抛光工艺优化
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论文类型：期刊论文
论文编号：374262
发表时间：2023-01-15
发表刊物：微纳电子技术
卷号：60
期号：01
页面范围：159-164
ISSN号：1671-4776
关键字：chemical mechanical polishing(CMP); flatness; process optimization; quartz wafer; surface roughness
CN号：13-1314/TN