Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2009-04-15

Journal: 人工晶体学报

Included Journals: CSCD、ISTIC、PKU、EI、Scopus

Volume: 38

Issue: 2

Page Number: 416-421

ISSN: 1000-985X

Key Words: 碲锌镉;化学机械抛光;抛光垫;氧化剂

Abstract: 本文采用新型的自行研制的化学机械抛光液,对碲锌镉晶体进行了化学机械抛光方法的尝试性试验,并分析了在化学机械抛光(CMP)过程中抛光垫的硬度、磨料的种类、氧化剂、抛光液的pH值对表面质量和材料去除率的影响,提出适合软脆功能晶体碲锌镉的高效低损伤抛光工艺.结果表明,采用自行研制的带有硝酸的化学机械抛光液,在pH优化值为2.5时,15 min即可获得Ra为0.67 nm的超光滑无损伤表面,大大提高了加工效率和精度.