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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2009-04-15

Journal:人工晶体学报

Included Journals:Scopus、EI、PKU、ISTIC、CSCD

Volume:38

Issue:2

Page Number:416-421

ISSN No.:1000-985X

Key Words:碲锌镉;化学机械抛光;抛光垫;氧化剂

Abstract:本文采用新型的自行研制的化学机械抛光液,对碲锌镉晶体进行了化学机械抛光方法的尝试性试验,并分析了在化学机械抛光(CMP)过程中抛光垫的硬度、磨料的种类、氧化剂、抛光液的pH值对表面质量和材料去除率的影响,提出适合软脆功能晶体碲锌镉的高效低损伤抛光工艺.结果表明,采用自行研制的带有硝酸的化学机械抛光液,在pH优化值为2.5时,15 min即可获得Ra为0.67 nm的超光滑无损伤表面,大大提高了加工效率和精度.