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吴爱民
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副教授   博士生导师   硕士生导师

其他任职:辽宁省能源材料及器件重点实验室副主任

性别:男

毕业院校:大连理工大学

学位:博士

所在单位:材料科学与工程学院

学科:材料物理与化学
材料表面工程

办公地点:新三束4#楼311室

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当前位置 : 吴爱民 >> 科学研究 >> 论文成果
玻璃衬底沉积氮化硅薄膜性能研究

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发布时间:2019-03-10

论文类型:期刊论文

发表时间:2009-11-15

发表刊物:哈尔滨工程大学学报

收录刊物:Scopus、CSCD、ISTIC、PKU、EI

卷号:30

期号:11

页面范围:1331-1334

ISSN号:1006-7043

关键字:氮化硅;ECR-PECVD;减反射膜;低温

摘要:为了改善玻璃衬底上制备的薄膜太阳电池的转换效率,采用高纯氮气作为等离子体气源,以质量分数为5%的SiH_4(Ar稀释)作为前驱气源,利用电子回旋共振-等离子体增强化学气相沉积技术在玻璃衬底上低温制备了氮化硅薄膜;利用各种测试设备分析了薄膜的成分、光学性能和表面形貌.结果表明:实验制备的非晶薄膜含氢量较低;薄膜的折射率随着衬底温度和微波功率的增加而增加.在衬底温度为350℃、微波功率为650 W时,薄膜的折射率在2.0左右,平均粗糙度为1.45 nm,还说明薄膜具有良好的光学性能和较高的表面质量.在此条件下,薄膜的沉积速率达到10.7 nm/min,表明本实验能在较高的沉积速率下制备均匀、平整、优质的SiN薄膜.

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