副教授 博士生导师 硕士生导师
其他任职：辽宁省能源材料及器件重点实验室副主任
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
学科：材料物理与化学
材料表面工程
办公地点：新三束4#楼311室
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发布时间：2019-03-10
论文类型：会议论文
发表时间：2008-10-01
页面范围：35-39
关键字：氮化硅薄膜 沉积速率 表面形貌 电子回旋共振 化学气相沉积 等离子体增强
摘要：利用电子回旋共振-等离子体增强化学气相沉积(ECR-PECVD)技术,以氮气为等离子体气源,硅烷为前驱气体在玻璃衬底上低温沉积了氮化硅薄膜.采用偏振光椭圆率测量仪、原子力显微镜(AFM)测试技术对薄膜的沉积速率、折射率、表面形貌等性质进行了测量。结果表明:采用ECR-PECVD技术能够在较低的温度下以较高的沉积速率(沉积速率达到11nm/min)沉积质量较好的薄膜.制备的薄膜表面质量较高,且粗糙度随着沉积温度和微波功率的增加而降低。
