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Indexed by:会议论文
Date of Publication:2012-09-13
Page Number:87-90
Key Words:Zr-Cu-N薄膜;结构;力学性能;电弧离子镀
Abstract: 利用脉冲偏压电弧离子镀设备调控分离靶弧流,在高速钢和Si基体上沉积了不同铜含量的Zr-Cu-N薄膜.采用EPMA、XRD、纳米压痕以及摩擦磨损试验机研究铜含量对薄膜的组分、结构、力学性能和摩擦学性能.研究表明：Zr-Cu-N薄膜结构主要依赖于铜含量；铜对作为软质相能有效地抑制ZrN晶粒的生长；随着铜含量的增加,薄膜硬度和弹性模量逐渐降低,最高分别为35.5和390.6 GPa,而摩擦系数先增加后减小,最低为0.15.
