个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别:男
毕业院校:大连理工大学
学位:博士
所在单位:光电工程与仪器科学学院
学科:光学工程. 微电子学与固体电子学. 测试计量技术及仪器. 光学
办公地点:厚望楼328室
联系方式:13795143616
电子邮箱:dwli@dlut.edu.cn
基于铁电衬底的界面应变诱导CIPS铁电调控与增强的实验证明
发布时间:2024-12-19 点击次数:
【1】研究背景
二维范德华(vdW)层状铁电材料作为铁电材料的一个新兴研究领域,近年来受到了广泛关注。与传统铁电材料相比,二维铁电材料由于层间相互作用弱,可以克服尺寸限制,即使在单层极限下也能保持稳定的铁电性。目前,一些二维材料如CuInP₂S₆ (CIPS)、WTe₂、α-In₂Se₃和SnTe等已被实验验证为铁电材料,在新型纳米电子和纳米光电子设备中显示出巨大潜力。其中,CIPS作为室温铁电绝缘体,具有直接宽带隙(≈2.9 eV)、较高居里温度(Tc≈ 320 K)和大的面外极化(≈4.15 μC cm-2)等特性,其独特的结构使其在新型纳米电子和纳米光子器件中极具应用潜力。然而,在CIPS中,由于Cu离子的移动,外部电场驱动的畴写入会产生不稳定的畴和扩散的畴壁,甚至导致材料击穿,阻碍了其在极化器件中的应用。因此,在(CIPS)等二维铁电材料中实现精确的畴控制仍艰巨挑战。一种有效策略是通过将CIPS与铁电氧化物薄膜形成界面来控制CIPS的畴形成,但其背后的铁电调控的机制尚不明晰,特别是缺乏实验证据来证明界面应变诱导的结构畸变效应。
【2】研究工作简介
本研究采用光致发光(PL)光谱、压电力显微镜(PFM)和密度泛函理论(DFT)计算相结合的方法,阐明了基于铁电衬底的界面应变诱CIPS中铁电调控与增强。PFM测量发现,薄层CIPS纳米片形成了与铁电薄膜PbZr0.52Ti0.48O3(PZT)和P(VDF-TrFE)相同的畴结构,表明通过铁电衬底增强了CIPS的极化取向。PL光谱结合DFT计算分析显示,与在一般衬底上CIPS相比,在铁电衬底上CIPS的PL发射峰出现了显著红移现象(高达0.21eV),揭示了界面拉伸应变诱导CIPS晶格变化。通过对比分析PZT和CIPS/PZT衬底上单层MoS2的PL光谱,证明了CIPS的极化取向与铁电衬底的极化取向为反向对齐关系。原位变温PL光谱研究表明,在铁电衬底上薄层CIPS表现出增强的TC(>200°C)。相关研究成果以“Optical Evidence of Interfacial Strain-Induced Ferroelectric Tuning and Enhancement in CuInP2S6 via Ferroelectric Substrate”为题,发表在《Small》期刊上。
【3】工作的亮点、新颖性和意义
1. 提供了一种有效策略来控制CIPS极性畴。通过PFM研究,证实了基于铁电衬底增强的CIPS极化取向排列,以及纳米间隙在限制CIPS在铁电衬底上畴形成中的关键作用。
2. 开发了一种简单的光学方法来阐明界面诱导CIPS铁电调控机制。结合PL光谱和DFT计算分析,揭示了当CIPS与PZT铁电衬底接触时,CIPS会发生结构畸变,这种晶格畸变是由于PZT施加的拉伸应变所致。
3. 通过对比分析1L MoS2/PZT和1L MoS2/CIPS/PZT异质结构的PL光谱,证明了CIPS的极化取向与铁电衬底的极化取向是反向对齐关系。
4.通过原位变温PL测试发现,铁电衬底上薄层CIPS表现出增强的Tc (>200oC)。
【4】论文信息
作者:Xinyi Hou, Fanyi Kong, Yunhao Tong, Haoran Li, Jianxun Dai, Yongjiang Li, Huolin Huang, Changsen Sun, Junfeng Gao, Lujun Pan, Dawei Li
文章题目:Optical Evidence of Interfacial Strain-Induced Ferroelectric Tuning and Enhancement in CuInP2S6 via Ferroelectric Substrate
期刊名:Small
年份:2024
DOI号:doi.org/10.1002/smll.202409879
全文链接:https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/smll.202409879
撰稿人:侯心怡、李大卫