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    王立达

    • 副教授       硕士生导师
    • 性别:男
    • 毕业院校:大连理工大学
    • 学位:博士
    • 所在单位:化工学院
    • 学科:化学工程
    • 办公地点:大连理工大学西部校区化工综合楼A506
    • 电子邮箱:ldwang@dlut.edu.cn

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    稀土Ce4+对镍铜磷化学镀层性能的影响

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    论文类型:期刊论文

    发表时间:2012-12-15

    发表刊物:材料保护

    收录刊物:PKU、ISTIC、CSCD

    卷号:45

    期号:12

    页面范围:4-6

    ISSN号:1001-1560

    关键字:化学镀Ni—Cu-P;稀土Ce4+;镀层;耐蚀性;形貌;成分

    摘要:稀土可有效改善化学镀Ni-Cu-P层的硬度、耐蚀性能,目前,对此研究还不够深入。在Ni—Cu-P化学镀液中引入不同含量的Ce4+,采用金相显微镜和电子能谱分析了所得Ni—Cu-P镀层的表面形貌和成分,利用极化曲线和交流阻抗谱考察了Ce4+对Ni-Cu-P镀层在室温海水中的耐蚀性能的影响。结果表明,加入Ce4+能减少Ni—Cu-P镀层的缺陷,使晶粒细化,镀层表面平整;镀层中不合Ce,Ce4+促进了镀层的非晶态化程度,从而提高了其耐蚀性;镀层的自腐蚀电位比紫铜基材的低,自腐蚀电流密度远小于紫铜基材,添加Ce4+能提高Ni-Cu-P镀层的耐蚀性,其自腐蚀电流密度低于未加稀土所得的镀层。