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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：德国卡尔斯鲁厄工业大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
学科：材料物理与化学. 微电子学与固体电子学
办公地点：辽宁省大连市高新园区凌工路2号
大连理工大学新三束实验室412
电子邮箱：
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衬底偏压对反应磁控共溅射Y∶HfO_2薄膜电学性能的影响
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论文类型：期刊论文
论文编号：387260
发表时间：2023-01-01
发表刊物：材料科学与工艺
卷号：31
期号：5
页面范围：16-23
ISSN号：1005-0299
CN号：23-1345/TB