大连理工大学主页平台管理系统周大雨 Importance of tailoring the thickness of SiO2 interlayer in the observation of ferroelectric characteristics in yttrium doped HfO2 films on silicon 周大雨

周大雨

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教授博士生导师硕士生导师

性别：男

毕业院校：德国卡尔斯鲁厄工业大学

学位：博士

所在单位：材料科学与工程学院

学科：材料物理与化学
微电子学与固体电子学

办公地点：辽宁省大连市高新园区凌工路2号
大连理工大学材料科学与工程学院
知远楼A415

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Importance of tailoring the thickness of SiO2 interlayer in the observation of ferroelectric characteristics in yttrium doped HfO2 films on silicon

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发布时间：2024-04-29

发表时间：2022-10-03

发表刊物：VACUUM

所属单位：材料科学与工程学院

卷号：183

ISSN号：0042-207X

关键字："Yttrium doped hafnium oxide; Sputtering; Thin film; SiO2 interlayer; Ferroelectric property"