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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：德国卡尔斯鲁厄工业大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
学科：材料物理与化学. 微电子学与固体电子学
办公地点：辽宁省大连市高新园区凌工路2号
大连理工大学新三束实验室412
电子邮箱：
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Optimizing the PECVD Process for Stress-Controlled Silicon Nitride Films: Enhancement of Tensile Stress via UV Curing and Layered Deposition
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论文类型：期刊论文
论文编号：481215
发表时间：2025-06-12
发表刊物：COATINGS
卷号：15
期号：6
ISSN号：2079-6412
关键字：CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; HYDROGEN; SIN DEPOSITION; THIN-FILMS