Date of Publication:2024-05-25 Hits:
Journal:微纳电子技术
Volume:60
Issue:01
Page Number:159-164
Key Words:化学机械抛光(CMP); 工艺优化; 平面度; 石英晶片; 表面粗糙度
CN No.:13-1314/TN
Date of Publication:2024-05-25
Degree:Doctoral Degree
School/Department:机械工程学院
Gender:Male
Alma Mater:大连理工大学
Journal:微纳电子技术
Volume:60
Issue:01
Page Number:159-164
Key Words:化学机械抛光(CMP); 工艺优化; 平面度; 石英晶片; 表面粗糙度
CN No.:13-1314/TN
Date of Publication:2024-05-25