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Indexed by:会议论文
Date of Publication:2009-07-20
Page Number:1
Key Words:等离子体刻蚀;水平集方法;加工技术;零组件;水平集函数;演化曲线;化学反应过程;放电参数;流体力学模型;不均匀性;
Abstract:等离子体刻蚀工艺在微电子、新材料、航天、精密机加工等领域都有着重要的应用,是许多高科技产品关键零组件的核心加工技术,特别是目前等离子体刻蚀技术已成为微电机系统制造的关键技术。在超大规模集成电路的生产工艺中,利用等离子体刻蚀技术可以实现高刻蚀速率、低能量损
