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王友年

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基于水平集方法的刻蚀剖面演化的研究
  • Hits:
  • Indexed by:

    会议论文

  • First Author:

    张弘

  • Co-author:

    戴忠玲,王友年

  • Date of Publication:

    2009-07-20

  • Document Type:

    A

  • Page Number:

    1

  • Key Words:

    等离子体刻蚀;水平集方法;加工技术;零组件;水平集函数;演化曲线;化学反应过程;放电参数;流体力学模型;不均匀性;

  • Abstract:

    等离子体刻蚀工艺在微电子、新材料、航天、精密机加工等领域都有着重要的应用,是许多高科技产品关键零组件的核心加工技术,特别是目前等离子体刻蚀技术已成为微电机系统制造的关键技术。在超大规模集成电路的生产工艺中,利用等离子体刻蚀技术可以实现高刻蚀速率、低能量损

Pre One:带柱形凹槽电极表面双频偏压等离子体鞘层物理特性的研究

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