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发布时间：2019-03-11

论文类型：会议论文

发表时间：2013-08-15

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关键字：感应耦合;Ar/Cl_2;电不稳定;特性模拟;半导体制造;均匀性;放电空间;电子密度;分子亚稳态;离子流;

摘要：感应耦合等离子体(ICP)具有低气压、高密度以及均匀性好等优点,在半导体制造工业中得到了广泛应用。混合气体(如Ar/Cl_2)更广泛用于薄膜的刻蚀,尤其是多晶硅的刻蚀。然而,混合气体的应用会带来很多问题,如负离子的出现会改变离子流、电子密度、放电空间结构,引起放电不稳定等。所以理论研究Ar/Cl_2混合气体等离子体特性对实际应用有重要的意义。