Study on atomic layer etching of Si in inductively coupled Ar/Cl2 plasmas driven by tailored bias waveforms
点击次数：
论文类型：期刊论文
发表时间：2017-01-01
发表刊物：Plasma Sci. Technol.
卷号：19
期号：6
页面范围：85502-85502
点击次数：
论文类型：期刊论文
发表时间：2017-01-01
发表刊物：Plasma Sci. Technol.
卷号：19
期号：6
页面范围：85502-85502