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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：女
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：物理学院
电子邮箱：daizhl@dlut.edu.cn
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Study on atomic layer etching of Si in inductively coupled Ar/Cl2 plasmas driven by tailored bias waveforms
点击次数：
论文类型：期刊论文
发表时间：2017-01-01
发表刊物：Plasma Sci. Technol.
卷号：19
期号：6
页面范围：85502-85502