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等离子体技术沉积SiCN薄膜中O杂质的来源、化合状态及其对薄膜结构和性能的影响

Release Time:2024-10-17  Hits:

Date of Publication: 2022-10-06

Journal: 真空科学与技术

Institution: 物理学院

Volume: 29

Issue: 1

Page Number: 26-30

Note: 新增回溯数据

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