GaN缓冲层上低温生长AlN单晶薄膜
Release Time:2019-10-10 Hits:
Indexed by: Journal Article
Date of Publication: 2003-02-28
Journal: 半导体光电
Included Journals: CSCD、ISTIC、PKU
Volume: 24
Issue: 1
Page Number: 32-36
ISSN: 1001-5868
Key Words: AlN;GaN;氢等离子体清洗;氮化
Abstract: 采用电子回旋共振等离子体增强金属有机物化学气相沉积(ECR-PEMOCVD)技术,在α-Al2O3(0001)(蓝宝石)衬底上,分别以高纯氮气(N2)和三甲基铝(TMAl)为氮源和铝源低温生长氮化铝(AlN)薄膜.利用反射高能电子衍射(RHEED)、原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)等测量样品,研究了AlN缓冲层和氮化镓(GaN)对六方AlN外延层质量的影响,实验表明在GaN缓冲层上能够低温生长出C轴取向的AlN单晶薄膜.