Current position: Home >> Scientific Research >> Paper Publications

基于RHEED图像外延GaN基薄膜表面晶格演变分析

Release Time:2022-12-09  Hits:

Date of Publication: 2022-10-10

Journal: 安徽工业大学学报 自然科学版

Volume: 24

Issue: 1

Page Number: 67-71

ISSN: 1671-7872

Note: 新增回溯数据

Prev One:基于ECR-PEMOCVD生长的稀磁半导体(Ga,Mn)N的特性

Next One:基于双热电偶校准ECR-PEMOCVD薄膜生长温度分析研究