刘艳红
个人信息Personal Information
副教授
硕士生导师
性别:女
毕业院校:大连理工大学
学位:博士
所在单位:物理学院
学科:凝聚态物理. 微电子学与固体电子学
办公地点:物理学院431
联系方式:15904250968
电子邮箱:dbd01@dlut.edu.cn
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等离子体加工对器件损伤的两种模式
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论文类型:期刊论文
发表时间:2002-05-23
发表刊物:半导体技术
收录刊物:PKU、ISTIC、CSCD
卷号:27
期号:5
页面范围:69-72
ISSN号:1003-353X
关键字:等离子体损伤;器件的可靠性;半导休工艺
摘要:介绍了微细加工中等离子体工艺对器件的损伤.主要有两种损伤模式:充电效应引起的损伤和辐射损伤.讨论了两种损伤模式的等离子体过程及损伤机制.