刘艳红

个人信息Personal Information

副教授

硕士生导师

性别:女

毕业院校:大连理工大学

学位:博士

所在单位:物理学院

学科:凝聚态物理. 微电子学与固体电子学

办公地点:物理学院431

联系方式:15904250968

电子邮箱:dbd01@dlut.edu.cn

扫描关注

论文成果

当前位置: 刘艳红 >> 科学研究 >> 论文成果

等离子体加工对器件损伤的两种模式

点击次数:

论文类型:期刊论文

发表时间:2002-05-23

发表刊物:半导体技术

收录刊物:PKU、ISTIC、CSCD

卷号:27

期号:5

页面范围:69-72

ISSN号:1003-353X

关键字:等离子体损伤;器件的可靠性;半导休工艺

摘要:介绍了微细加工中等离子体工艺对器件的损伤.主要有两种损伤模式:充电效应引起的损伤和辐射损伤.讨论了两种损伤模式的等离子体过程及损伤机制.