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Indexed by: Journal Article
Date of Publication: 2007-10-25
Journal: 新技术新工艺
Included Journals: ISTIC
Issue: 10
Page Number: 55-57
ISSN: 1003-5311
Key Words: 超磁致伸缩薄膜;制备工艺;磁化特性
Abstract: 在综合分析比较各种薄膜材料的制备工艺和方法的基础上,给出了超磁致伸缩薄膜制备的系统工艺路线、制备方法,确定了相应的工艺参数,最终通过磁控溅射方法,在聚酰亚胺基片上制备出了间接耦合式超磁致伸缩薄膜.同时,对制备的薄膜磁化性能进行了试验研究,试验结果表明,根据所选取工艺方法和参数制备的超磁致伸缩薄膜具有优良的磁化性能,达到了试验分析研究的目的.研究得到的工艺参数结果及试验分析方法为进一步研究超磁致薄膜奠定了一定的基础,积累了经验.