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论文类型：期刊论文

发表时间：2008-05-15

发表刊物：光学精密工程

收录刊物：EI、PKU、ISTIC、CSCD

卷号：16

期号：5

页面范围：870-877

ISSN号：1004-924X

关键字：超磁致伸缩微位移执行器;磁滞;涡流;矢量阻抗

摘要：基于线性压磁方程、机电换能方程和阻抗分析理论,建立了超磁致伸缩执行器的矢量阻抗分析模型.模型中将执行器系统的矢量阻抗分为机械导纳和电气阻抗两部分讨论,在机械导纳中引入负载影响,将压磁系数定义为复常数,模拟磁滞效应;在电气阻抗中,通过在求解的超磁致伸缩材料内部磁场引入涡流影响项来模拟系统的非线性特性;两部分之和得出超磁致伸缩微位移执行器系统的矢量阻抗.实验结果显示,模型计算的系统矢量阻抗值与测量值间幅值误差约7%,相位误差约7.7%,表明所建立的模型能够近似描述系统在精密加工场合时的阻抗特性,可为超磁致伸缩微位移执行器的设计、控制和性能优化提供指导.