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Indexed by:会议论文
Date of Publication:2013-08-15
Page Number:1
Key Words:CF_4/Ar;模式转换;放电模式;感应耦合;射频功率;刻蚀工艺;状态参数;电子密度;谱线强度;混合气体;
Abstract:引言感应耦合等离子体(ICP)放电中存在两种放电模式:容性放电(E模式)和感性放电(H模式)。增大或减小射频功率放电模式会发生E-H或者H-E模式转换。模式转变过程受等离子体外部控制参数的影响,在低气压时,E-H模式转换时等离子体状态参数是连续的变化;然而在高气压下时等离子体参数变化是一种跳变。在刻蚀工艺中,经常使用具有化学活性很强的CF_4气体。本文将在CF_4/Ar混合气体感性耦合放电中开展E-H模式转换的实验研究。
